文/ 华商韬略 张津京
荷兰光刻机霸主ASML公司刚刚发布消息，其主要元件供应商Prodrive工厂12月1日发生火灾，ASML预计明年年初出货预计将遭递延。ASML公司在光刻机领域是世界当之无愧的霸主，几乎垄断全部的高精度芯片级光刻机市场。而这家公司也以年度产量低下闻名世界。
▲ASML相关公告
目前数据显示，2018年全年ASML产量应该在18台左右，预计2019年会有大规模增加，能达到30台。而根据中芯国际的相关报道，2017年年底已经成功预定ASML公司2019年1台7mm光刻机的订单。
ASML已经确认，2018年的订单不会受到影响，但2019年订单肯定要顺延。这不光会影响到芯片军团的7纳米之争，更对中国芯片产业带来巨大挑战。
垄断一切的ASML
谈起ASML，这是一家低调的大佬级企业。坐落于荷兰的这家公司，主营业务就是生产光刻机，尤其是芯片级的EUV。众所周知，芯片就是用光刻机在硅片上蚀刻出来的，光刻机是芯片制作最基础的工具，而光刻机的精度就决定了芯片的精度。但ASML技术太复杂，产量一直上不去，2018年ASML在市场出货量预计破天荒达到18台。
目前在28纳米以下的高精度芯片光刻机市场，只有ASML一家供应商。也就是意味着，如果企业想选用主流芯片技术，就不可避免的成为ASML设备生产的芯片产品的用户。
荷兰是全球为数不多拥有完整半导体产业链的国家，其半导体产业年收益高达百亿欧元以上。ASML这家公司1984年从飞利浦独立出来后，受益于荷兰完整的半导体产业链，取得了飞速发展。
说实话，光刻机技术没有捷径。如果没掌握1微米的技术，就出不来90纳米的技术，没有90纳米就出不来45纳米技术，而现在最新的技术实力，ASML是唯一一个可以提供完整7纳米光刻机技术的厂商。
更有意思的是，只有投资ASML，才能够获得优先供货权。这样奇特的合作模式使得ASML获得了大量的资金，包括英特尔、三星、台积电、海力士都在ASML中有相当可观的股份，可以说大半个半导体行业都是ASML一家的合作伙伴，形成了庞大的共同体，几乎是全行业的利益垄断。
7纳米芯片之争有变
此次大火后，最受影响的就是目前三星和台积电正在如火如荼展开的7纳米之争。
2019年双方比拼的核心产品，都是7纳米的芯片。目前可以知道的是，三星将于2019年第二季度推出自己的7纳米芯片，而台积电最迟到2019年8月，也会将代工的7纳米华为麒麟990芯片推向市场。作为芯片生产的龙头企业，这两家的动向深刻影响着行业变局。
但是突发的一场大火，可能会将7纳米芯片面世时间往后顺延。据相关人士介绍，目前ASML仍提供的是12纳米和10纳米芯片光刻机，并没有大规模向外提供7纳米精度的光刻机产品。
而此次着火的主要元件供应商Prodrive公司，据业内人士透露是向ASML提供光头控制整体解决方案和光刻机中控板的厂商，是最核心的合作伙伴，双方有互换股权深度捆绑。
这次着火后，ASML公司公告显示，2018年订单不受影响。有分析师认为，这意味着2018年年度生产所需要的中控和光头控制主板，已经交货。公告还称2019年交货将顺延，也就意味着实际上7纳米光刻机的相关控制主板，ASML还没有从Prodrive公司获得，或者还未通过生产线稳定测试。
那也就意味着，一般两个月的新产品生产线测试，由于此次大火会往后顺延。而未经生产线测试，最终的7纳米光刻机不可能下线交货。这也为三星与台积电的7纳米芯片大战带来一层阴影。
自己有才是真的
中芯国际2019年按原计划将获取1台ASML制造的7纳米EUV光刻机。说实话，根据美国牵头制定的《瓦森纳协定》，欧洲和美国的企业在高技术上实际是对中国进行了严格的技术封锁，ASML也一直以来拒绝向中国出售最新光刻机产品。此次破天荒接受中芯国际的订单，一方面是国际贸易方面美欧争端加剧的产物，另一方面也与中国正在攻关相关光刻机技术有关。
2018年5月11日，上海微电子举行第100台国产高端光刻机交付产线暨产品发运长电先进仪式。上海微电子的光刻机是首次在国内实现了稳定的前道90纳米制程芯片生产，有半导体业界人士表示，攻克90纳米技术后，65和45纳米技术都应该是顺理成章的，预计上海微电子已经在实验室内实现了相关技术进程。而再低一些的28纳米和14纳米进程，才是最近几年国内攻关的重点。
正是在上海微电子90纳米进程光刻机稳定下线后不到一周，ASML就决定对中芯国际求购1台7纳米光刻机订单放行，其中的奥妙不难推测。
另外11月29日，网络媒体一阵自嗨。因为国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造制程小于10纳米的芯片。
但这是抄了近路取了巧，一来加工晶圆的大小不能超过4英寸，二来复杂的图形不能蚀刻，因此这样的技术运用于商业化芯片生产还有距离。根据相关主流报道显示，中科院这个技术已经确认的应用前景更多的是在在光子晶体阵列、高精密光栅等光学器件领域。目前已经实现包括纳米透镜和波前调控等超材料/超表面器件，大口径轻量化薄膜镜等第三代光学器件，切伦科夫辐射、LSPR和SERS生化传感、超导纳米线单光子探测等系列新型纳米器件的制造。当然，技术优化下去，这台光刻机有可能攻破商业芯片生产的难关。
但这代表着我们的技术人员在努力。如果没有他们，说实话我们可能连28纳米的光刻机都买不到。
也就印证了一句话：自己有才是真的。只要你突破了技术，就没有人能卡住你的脖子。
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